（来源：半导体前沿）

-来自彤程，龙图光罩，SEMI，复旦大学，南开大学，暨南大学，苏州实验室，欣奕华，上海光源，中电科48所，安捷伦，湖北菲利华，新维度微纳，卫利等单位的专家将作精彩报告

4月10日消息，美国联邦通信委员会（FCC）的一项新提案近期引发了科技产业的巨大震动。

该提案计划于4月30日对该提案进行投票表决，拟全面禁止美国市场在售射频类电子产品，采信全中国境内实验室出具的准入合规测试与认证报告，覆盖出口美国的手机、相机、电脑、物联网全品类带射频终端设备，开展准入合规测试与认证服务。这也标志着美国对中国科技产业的禁令范围正在大幅扩张，从产品、企业层面，进一步延伸至产业链核心测试环节。

为了配合这一禁令，FCC还提议简化在美国本土或其他被认为安全国家实验室的审批流程。美方意图通过这种方式，强制全球电子制造企业将原本在中国进行的测试业务抽离，从而实现技术环节的去中国化。

据FCC披露的数据显示，目前全球约有75%的电子产品是在中国的实验室完成相关合规测试的。中国凭借完善的电子制造产业链、成熟的测试技术与高效的服务能力，长期占据全球电子测试市场主导地位，先后有超160家实验室获得FCC认可，为全球厂商提供覆盖电磁兼容、射频干扰、安全标准等全维度测试服务。

如果该禁令在4月30日的投票中获得通过，原本高度依赖中国境内测试环节的电子产业链将面临巨大的调整压力。

早在2025年5月，FCC就以全票通过了“不良实验室”（Bad Labs）规则，首次构建对华检测机构的管控框架，明确禁止与华为、中兴等“被覆盖名单”企业存在控制关系的中国实验室参与认证。

首轮限制落地后，FCC便启动密集清退动作。2025年9月，FCC对首批7家中国实验室启动撤销认可程序，同时驳回4家实验室的资质续期申请，涉及中国信息通信研究院、重庆信息通信研究院等行业头部机构。此后清退范围持续扩大，截至本次提案发布前，FCC已通过“精准打击”方式，撤销或启动撤销超15家中国实验室的认可资质。

4月9日，外交部发言人毛宁主持例行记者会。

法新社记者提问，美国联邦通信委员会（FCC）表示，计划就一项提案进行表决，该提案将禁止所有中国实验室对在美国使用的电子设备进行检测。中方对此有何评论？

毛宁强调，中方坚决反对美方泛化国家安全概念的做法，这种做法严重阻碍中美企业正常的经贸往来，不符合包括美国企业和消费者在内的各方利益。中方将继续坚定维护自身的正当合法权益。

来源：官方媒体/网络新闻

—论坛信息—

名称：第3届光掩模与光刻胶技术论坛

时间：2026年4月24日

地点：上海

主办方：亚化咨询

—会议背景—

随着半导体工艺节点向2nm及以下推进，下一代光刻技术已成为行业焦点。主要方向包括高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装（DSA）和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。2026年，高NA EUV已进入高容量制造阶段，而NIL和X射线光刻作为潜在颠覆者，正加速研发。

进入2026年，中国对高端光掩模的需求持续强劲增长，但技术研发、生产能力及产业链整合方面仍面临高成本、技术复杂性和供应链依赖等诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2024年间从40.4亿美元增长至51亿美元，年复合增长率达4.0%。预计到2030年，该市场规模将进一步扩大至约80亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右，预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元。

全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企业主导，市场占有率超过70%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替代方面取得突破。

亚化咨询预计2026年市场规模有望达到100亿元。在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破，如南大光电实现ArF光刻胶量产。国内一些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年成立)等。国内光掩模与光刻胶产业发展正在提速，技术进步成为产业发展的重要推动力。

第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚行业的领军企业、机构的专家，探讨下一代光刻技术发展方向，中国光掩模版与光刻胶产业的技术进展与应用，市场机遇与挑战，和产业发展前景。

—会议报告—

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