（来源：半导体前沿）

-来自彤程，龙图光罩，SEMI，复旦大学，南开大学，暨南大学，苏州实验室，欣奕华，上海光源，中电科48所，安捷伦，湖北菲利华，新维度微纳，卫利等单位的专家将作精彩报告

当地时间4月8日，美国联邦通信委员会（Federal Communications Commission，简称FCC）宣布，将于本月30日的公开会议上就一项新提案进行表决，计划全面禁止中国实验室对出口至美国的智能手机、相机和电脑等电子设备进行检测。这一举动标志着华盛顿在科技和通信设备领域对华管控的进一步升级。

FCC主席布伦丹·卡尔（Brendan Carr）在一份声明中宣称，目前全球超过75%的设备检测工作集中在拒绝与美国提供对等互惠待遇的国家。为了改变这一现状并强化美方设备的测试完整性与安全性，FCC拟定了一系列规则提案（Notice of Proposed Rulemaking，简称NPRM）。具体核心措施包括：

• 逐步淘汰非互惠国实验室：针对未与美国签署相互承认协议（Mutual Recognition Agreements，简称MRAs）或类似对等贸易协定的国家，其检测实验室和认证机构将不再获得美方认可，现有相关实验室将被设定两年的过渡期并逐步淘汰出局。

• 建立信任实验室“绿色通道”：在正式实施全面禁止前，FCC将另行表决通过一项简化的审批程序，专门为在美国本土或处于对等互惠国家的“受信任实验室”所检测的设备提供快速优先的审查通道。

• 升级全流程监管与执法体系：要求相关企业明确披露参与FCC认可测试的机构地点及员工人数；完善设备上市后的市场监督程序；进一步加强执法机制；同时建立保密的内部报告渠道，鼓励行业参与者举报潜在的违规行为或所谓安全威胁。

此次提案是对美方前期排他性政策的继续扩张。去年，FCC曾宣布禁止23家被其认定存在安全隐患、由中国政府拥有或控制的实验室参与美国电子设备检测。然而美方机构指出，目前绝大多数位于中国的测试实验室仍在该体系内合法开展业务。卡尔将其归咎于奥巴马政府在2015年放弃了对等原则，允许在全球任何地方进行测试认证，美方单方面声称这种境外测试破坏了其设备授权程序的可靠性并威胁国家安全。

追溯近期动向，检测实验室禁令仅是美方密集出台的科技限制措施的冰山一角。就在上周五，FCC进一步提议，全面禁止进口部分中国制造商的设备，甚至计划采取极端手段，追溯并撤销这些企业在2022年禁令生效前已获得的合法销售授权。对此，海康威视明确回应称，坚决反对FCC试图追溯并取消以往合法授权的行径。

美方针对中国科技产品的阻击范围正不断向广泛的消费端扩大。去年12月，FCC全面禁止了中国新款无人机的进口，上个月更将进口禁令延伸至中国制造的新型消费级路由器等互联网连接基础设备。针对FCC最新提出的一系列针对中国实验室的排除动作，中国驻华盛顿大使馆目前尚未做出正式回应。随着表决日期的临近，全球电子产品供应链的合规成本与市场准入博弈无疑将面临新的不确定性。

来源：官方媒体/网络新闻

—论坛信息—

名称：第3届光掩模与光刻胶技术论坛

时间：2026年4月24日

地点：上海

主办方：亚化咨询

—会议背景—

随着半导体工艺节点向2nm及以下推进，下一代光刻技术已成为行业焦点。主要方向包括高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装（DSA）和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。2026年，高NA EUV已进入高容量制造阶段，而NIL和X射线光刻作为潜在颠覆者，正加速研发。

进入2026年，中国对高端光掩模的需求持续强劲增长，但技术研发、生产能力及产业链整合方面仍面临高成本、技术复杂性和供应链依赖等诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2024年间从40.4亿美元增长至51亿美元，年复合增长率达4.0%。预计到2030年，该市场规模将进一步扩大至约80亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右，预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元。

全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企业主导，市场占有率超过70%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替代方面取得突破。

亚化咨询预计2026年市场规模有望达到100亿元。在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破，如南大光电实现ArF光刻胶量产。国内一些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年成立)等。国内光掩模与光刻胶产业发展正在提速，技术进步成为产业发展的重要推动力。

第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚行业的领军企业、机构的专家，探讨下一代光刻技术发展方向，中国光掩模版与光刻胶产业的技术进展与应用，市场机遇与挑战，和产业发展前景。

—会议报告—