(来源:半导体前沿)

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4月3日消息,据韩国媒体Chosun Biz报道称,中国NAND Flash制造商长江存储(YMTC)位于武汉的三期项目(第三座晶圆厂)预计将于今年下半年开始量产高堆叠层数的NAND Flash。预计长江存储今年的NAND Flash产量将超过SK海力士和美光,位居全球第三,仅次于三星和铠侠。

一位知情人士称,长江存储“武汉一期线和二期产能已接近饱和,最新的三期项目正在进行关键设备的最后安装,以进行全面量产。”
过去两年,长江存储在全球NAND Flash市场迅速扩张,其武汉二期项目生产线于2024年投产,据称仅用了两年时间就达到了满负荷产能。该生产线目前平均每月生产6万片晶圆,而其一期项目生产线的月产量已达10万片。这也使得长江存储的年产量从2024年的129万片增长至2025年的177万片。预计长江存储今年将接近200万片。
而一旦长江存储三期项目生产线的全面投产,长江存储预计将超越SK海力士(约190万片)和美光,在全球NAND闪存市场出货量排名中位列第三,仅次于日本铠侠(482万片)和三星电子(468万片)。
值得一提的是,长江存储正在稳步提升其200层堆叠的NAND Flash,并计划拓展在服务器和移动设备领域的市场份额。此外,长江存储的300层NAND Flash产品的良率预计也将在今年趋于稳定。
报道称,长江存储的收入结构长期以来因专注于中国国内市场而被低估,但从今年开始,其收入结构也可能发生变化。据路透社等媒体报道,由于担心NAND Flash价格上涨导致的成本上升和供应问题,某海外智能手机品牌企业正在考虑使用长江存储的NAND Flash。如果该合作得到确认,这将意味着它通过了该客户严苛的质量、可靠性和供应稳定性方面的评估。后续其他受NAND Flash短缺困扰的大型科技公司也可能将长江存储视为替代方案。
一位半导体行业人士表示:“如果长江存储向该海外大客户供应NAND Flash,这将象征性地标志着其客户群从以中国为中心的市场重新进入全球顶级手机制造商的供应链。”他还补充道:“鉴于苹果此前已从三星电子、SK海力士和铠侠采购NAND闪存,长江存储的市场地位显然会发生变化。”
来源:芯智讯

—论坛信息—
名称:第3届光掩模与光刻胶技术论坛
时间:2026年4月24日
地点:上海
主办方:亚化咨询
—会议背景—
随着半导体工艺节点向2nm及以下推进,下一代光刻技术已成为行业焦点。主要方向包括高数值孔径极紫外(High-NA EUV)光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装(DSA)和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。2026年,高NA EUV已进入高容量制造阶段,而NIL和X射线光刻作为潜在颠覆者,正加速研发。
进入2026年,中国对高端光掩模的需求持续强劲增长,但技术研发、生产能力及产业链整合方面仍面临高成本、技术复杂性和供应链依赖等诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2024年间从40.4亿美元增长至51亿美元,年复合增长率达4.0%。预计到2030年,该市场规模将进一步扩大至约80亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右,预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元。
全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企业主导,市场占有率超过70%。而在中国市场,路维光电、清溢光电、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力,并在国产化替代方面取得突破。
亚化咨询预计2026年市场规模有望达到100亿元。在ArF光刻胶领域,国内厂商正在加快研发进程,并取得了核心突破,如南大光电实现ArF光刻胶量产。国内一些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等,在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研,国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年成立)等。国内光掩模与光刻胶产业发展正在提速,技术进步成为产业发展的重要推动力。
第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚行业的领军企业、机构的专家,探讨下一代光刻技术发展方向,中国光掩模版与光刻胶产业的技术进展与应用,市场机遇与挑战,和产业发展前景。
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