投资者提问：

请问目前ald的两种路径，一种是水蒸气作为氧源，一种是臭氧作为氧源，均为与tma前驱体反应实现薄膜沉积。目前主流传统是采取水蒸气方式。请问公司所采取的臭氧路径相较于水蒸气，有何优势？

董秘回答(国林科技SZ300786)：

尊敬的投资者，您好。臭氧应用于ALD先进制程相较水蒸气优势在于：薄膜纯度更高、杂质更少，致密度与均匀性更佳；低温适配性强，能渗透复杂 3D 结构，且反应副产物无污染，可提升器件性能与生产效率，适配先进制程需求。感谢您的关注。