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投资者提问:新凯来在芯片设计研发技术上成果显著,像是开发的多重图形曝光技术...

时间:2025年10月20日 16:19

投资者提问:

新凯来在芯片设计研发技术上成果显著,像是开发的多重图形曝光技术、低介电常数材料等。近期其还推出了国产EDA设计软件,性能超行业标杆30% 。想了解下,公司是否关注到新凯来这些技术突破?它们是否有可能在面板设计制造中发挥作用,与面板技术存在重合之处?公司有无计划探索和新凯来合作,以此助力面板国产化进程呢?

董秘回答(深天马ASZ000050):

您好,感谢您对天马公司的关注。公司与全球数千家供应商建立了友好的合作关系,积累了优质的供应商资源,保持并寻求长期的深度协同,也一直支持并鼓励国内供应商的协同发展,推进国产化进程。

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