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聚和材料:介绍空白掩膜板及掩模版在光刻工艺中的作用

时间:2025年10月15日 16:26

投资者提问:

公司收购的ske空白掩膜板是否是光刻机里面光刻工艺所需要的图形模板?光刻机生产芯片都要用到掩膜板吗?

董秘回答(聚和材料SH688503):

尊敬的投资者,您好。空白掩模版是掩模版的核心关键原材料,主要通过在超高纯度石英基板上依次完成切磨抛、清洗、镀膜、光刻胶涂胶及产品测试等工序制成。因此,光刻胶属于空白掩膜版的核心原材料之一。掩模版又称光罩、光掩模等,是光刻工艺所用的图形母版,其制作核心是在空白掩膜基板上形成特定电路图形,再通过曝光将图形转印到晶圆上,功能类似传统照相机的 “底片”,因此每款新设计的芯片,都需匹配一整套掩模版模具。感谢您的关注!

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