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路维光电:掩膜版为光刻工艺图形转移刚需母版影响品质良率

时间:2025年10月14日 17:06

投资者提问:

尊敬的董秘,您好!请问公司有什么产品可以直接或间接用于光刻机及光刻工艺吗?谢谢!

董秘回答(路维光电SH688401):

尊敬的投资者,您好!公司掩膜版产品是下游客户光刻工艺图形转移的刚需母版,光刻机/曝光机通过对掩膜版曝光,将掩膜版上的图案转移到下游基板材料上(硅片、玻璃基板、有机基板等),掩膜版自身的品质状况直接影响终端产品的品质和良率。感谢您的关注,祝您生活愉快!

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