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国林科技:臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积等工艺制程

时间:2025年10月27日 16:11

证券日报网讯国林科技10月27日在互动平台回答投资者提问时表示,臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程,子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。

(文章来源:证券日报)

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