（来源：半导体前沿）

-来自彤程，龙图光罩，SEMI，复旦大学，南开大学，暨南大学，苏州实验室，欣奕华，中电科48所，安捷伦，湖北菲利华，新维度微纳，卫利等单位的专家将作精彩报告

光刻胶国产化加速推进，存储芯片产业链迎来国产替代窗口期。两者看似分属不同赛道，实则深度绑定——光刻胶是存储芯片制造的核心耗材，直接决定电路图案的精度、良率与成本；而存储芯片厂商则是光刻胶企业的重要大客户。存储芯片扩产与涨价潮，正为光刻胶国产化提供强劲需求拉动。

双赛道绑定逻辑

光刻胶如同芯片制造的“胶片”，负责将掩膜图案精确转移到硅片上，其分辨率、纯度与稳定性直接影响制程节点与良率。存储芯片（DRAM、NAND Flash等）则是电子设备的“数据仓库”，负责海量数据的存储与快速读写，尤其在AI服务器、手机、数据中心等场景需求爆发下，存储厂商正加速扩产。

两者绑定紧密：存储芯片制造离不开KrF、ArF等高端光刻胶，国产存储龙头（如长江存储、长鑫存储）的产能爬坡，直接带动光刻胶验证与放量。同时，布局光刻胶+存储相关材料的双赛道公司，具备产业链协同优势，能更好应对周期波动，抗风险能力更强。2026年，随着存储涨价共振+国产晶圆厂扩产，预计光刻胶需求将迎来规模化爆发窗口。

双赛道核心公司梳理

以下聚焦在光刻胶领域有实质进展、且与存储芯片供应链形成匹配的公司（基于公开信息整理，数据截至2026年早期进展）：

南大光电：ArF光刻胶技术国内领先，已有产品在存储芯片50nm技术节点完成验证并实现商用销售，部分ArF产品通过下游存储/逻辑客户认证。2025年前三季度光刻胶业务营收大幅增长，ArF贡献显著，随着国内晶圆厂扩产，高端产品放量确定性强。公司在光刻胶+前驱体等领域形成协同，受益存储涨价与国产替代双轮驱动。

晶瑞电材：高纯电子化学品与光刻胶平台型布局，高纯双氧水等产品已进入长江存储、长鑫存储等存储芯片供应链，多款KrF光刻胶实现量产并供应多家半导体客户，ArF光刻胶也在推进28nm节点验证。材料业务与存储需求高度匹配，成熟制程光刻胶市占优势明显。

彤程新材：半导体光刻胶国内重要玩家，KrF光刻胶国内市占率领先（部分数据超40%），已批量供应存储芯片制造商（如长江存储长期协议），I线/KrF/ArF全系列推进中，客户覆盖国产存储主流厂商。KrF产品在存储工艺中实现高良率，成本与性价比优势支撑放量。

上海新阳：光刻胶产能持续落地，已建成I线、KrF、ArF干法及浸没式等完整平台，多款产品实现规模化销售并在存储芯片制造环节形成增长点。同时，电镀液、蚀刻液等湿电子化学品也广泛应用于存储领域，半导体材料业务整体放量显著，2025年业绩增长强劲。

飞凯材料：除半导体光刻胶逐步放量外，EMC环氧塑封料是存储芯片封装的关键材料之一，已在存储芯片产业链形成布局。同时，光刻胶配套材料（如i-line、KrF相关）也切入芯片制造环节，先进封装与存储需求协同推进。

光刻胶国产化正从“验证阶段”迈向“规模放量”，存储芯片超级周期（AI驱动的DRAM/NAND涨价+扩产）提供最直接催化剂。双赛道公司凭借客户绑定与技术积累，有望在2026年迎来业绩与市场双重验证。风险方面，验证周期仍较长，技术迭代与国际环境变化需持续跟踪。

素材来源：龙虎掘金

—论坛信息—

名称：第3届光掩模与光刻胶技术论坛

时间：2026年4月24日

地点：上海

主办方：亚化咨询

—会议背景—

随着半导体工艺节点向2nm及以下推进，下一代光刻技术已成为行业焦点。主要方向包括高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装（DSA）和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。2026年，高NA EUV已进入高容量制造阶段，而NIL和X射线光刻作为潜在颠覆者，正加速研发。

进入2026年，中国对高端光掩模的需求持续强劲增长，但技术研发、生产能力及产业链整合方面仍面临高成本、技术复杂性和供应链依赖等诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2024年间从40.4亿美元增长至51亿美元，年复合增长率达4.0%。预计到2030年，该市场规模将进一步扩大至约80亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右，预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元。

全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企业主导，市场占有率超过70%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替代方面取得突破。

亚化咨询预计2026年市场规模有望达到100亿元。在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破，如南大光电实现ArF光刻胶量产。国内一些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年成立)等。国内光掩模与光刻胶产业发展正在提速，技术进步成为产业发展的重要推动力。

第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚行业的领军企业、机构的专家，探讨下一代光刻技术发展方向，中国光掩模版与光刻胶产业的技术进展与应用，市场机遇与挑战，和产业发展前景。

—会议主题—