荷兰近期发布光刻机管控新规，引发全球半导体震动。

据路透社报道，荷兰已明令禁止ASML向中国出口核心DUV设备，并同步扩大技术管制范围。此前彭博社曾披露，荷兰还计划对ASML为中国设备提供的维修服务施加约束，不过相关消息尚未得到ASML及荷兰官方的正式确认。

最近，阿斯麦首席执行官富凯在提及“对中国出口限制”时指出，假如把中国逼入困境，中国就会完全脱离西方技术。等到中国完成自主研究开发，可能要向我们反向出口了。

而ASML的担忧，正在成为发生的事实。

要理解这一系列限制措施的背景，还需回溯至2023年的政策变化。

2023年3月，美国率先升级对华芯片出口管制，将限制重点指向7纳米及更先进的制程工艺，试图从源头制约中国芯片产业的进步。

随后荷兰迅速跟进，于同年6月正式发布规定，明确自9月1日起，部分深紫外光刻机对华出口需申请特别许可。

但中国企业对此早有预判，在2023年上半年便从ASML进口了价值超过五十亿美元的设备，累计数量突破一千四百台。这些支持14纳米及以上工艺的设备，持续为中芯国际、长江存储等企业的生产线提供稳定保障。

然而，售后问题很快浮现。2024年1月，荷兰突然撤销部分机型的出口许可，导致相关设备的零部件供应与维修服务直接中断。

截至2024年年中，已有工厂的光刻机光源模块出现故障，生产效率下降15%，生产线一度面临停滞风险。

需要指出的是，ASML曾承诺提供长达十年的维护服务，包括软件升级与现场技术支持，如今却因法规变动单方面违背承诺。

这些已购设备总价值超过八百亿美元，失去售后保障后几乎形同废铁。相关企业承受的损失极为沉重。

2024年下半年，在中国行业协会组织下，受影响企业开始整理采购合同、核算经济损失，为后续维权行动做前期准备。

令人意外的是，2025年荷兰进一步加严管控，新规将DUV设备的出口限制从7纳米收紧至14纳米。ASML的1970i、1980i等主力机型全部被列入管制范围，审批周期也延长至九十天。

然而，这一轮管控措施最终让实施方自身承受后果：ASML股价当日重挫8.2%，分析师预测其2025年营收将萎缩12%。

中国企业之所以能够如此坚定，底气完全源于持续增强的综合实力，而且这一实力仍在不断提升。

首先，在技术自主研发方面，我们早已进行前瞻布局。

2024年，上海微电子推出的28纳米光刻机良率达到90%，该设备采用电子束技术。精度已与ASML中端产品持平。

2025年，SMEE公司提交了EUV相关技术专利申请，计划于2026年实现量产，目标直指打破ASML在高端光刻机市场的垄断局面。

中芯国际同样持续发力，在稳定量产28纳米芯片的同时。7纳米制程的攻关已进入最后冲刺阶段。

此外，在近期举办的湾区半导体展上，新凯来集中展示了三十余款半导体设备，覆盖刻蚀、薄膜沉积等全流程环节。万里眼推出的90GHz超高速实时示波器，性能较同类产品提升五倍。直接打破了西方企业的技术垄断。

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更值得关注的是，EDA软件及关键零部件等领域的技术短板也在加速弥补：华大九天通过并购整合完善了供具链与IP布局。北方华创的离子注入机、中微公司的刻蚀设备已用于5纳米生产线。其精度可达头发丝直径的500万分之一。

归根结底，合同绝非一纸空文，合法权益的维护终须依靠实力支撑。

中国企业要求ASML回购相关设备，并非无理取闹之举，而是对其单方面违约行为的正当回应。

如今ASML已陷入两难境地：若遵守荷兰的管制法规，将失去庞大的中国市场；若想维持商业合作，又难以承受美国的压力，最终可能面临信誉与市场双双受损的局面。

再反观中国，越是面临技术封锁的压力，自主研发的动力就越强劲——从“两弹一星”到北斗系统组网，再到如今因芯片问题倒逼的产业全面升级。

荷兰作为贸易依存度极高的国家，在两大经济体之间艰难维持平衡；而中国的芯片发展路径清晰、步伐坚定，实现自主可控的目标已势不可挡。