10月27日上午，光刻机（胶）板块大涨，截至午间收盘，晶瑞电材涨幅超过15%，安泰科技、万润股份10%涨停，锦华新材、佳先股份、联合化学、艾森股份、彤程新材、钢研纳克、南大光电、江化微等涨幅居前。

消息面上，我国首个EUV光刻胶标准立项。国家标准委网站显示，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，10月23日开始公示，截止时间为11月22日。该标准的制定不仅能够填补国内在该领域的技术标准空白，更将通过建立统一的测试方法体系，为国内外EUV光刻胶的性能评价提供客观标尺，提升我国在全球半导体材料领域的话语权和竞争力。当前，随着全球半导体产业向先进制程加速演进，EUV光刻技术已成为7 nm及以下节点的唯一量产方案。但是，EUV光刻胶完全被国外先进半导体材料公司所垄断（JSR、东京应化等占据超过95%全球市场份额），国产化率为零，国内的研发也仍处于起步阶段，亟需突破材料自主化与标准化壁垒。

在基础研究方面，北京大学、南开大学、华东理工大学、清华大学相关研究成果好消息不断。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。10月16日，南开大学现代光学研究所发布消息，其研究团队在氧化钛团簇光刻材料领域取得重要进展，成功实现原本光刻惰性的钛氧簇表现出纳米图案化应用，并最终制备出12.9纳米高分辨负性光刻图案，为继续发展钛氧簇基EUV光刻胶奠定基础。9月19日，华东理工大学发布消息称，该校先进光刻胶薄膜沉积制备研究获进展，提出了一种间歇性旋涂化学液相沉积制备非晶态沸石咪唑酯骨架（aZIF）薄膜的方法，实现了薄膜沉积速率和厚度的可控，并进行了电子束光刻和超越极紫外光刻验证。7月28日，清华大学发布消息称，该校化学系许华平教授团队在极紫外（EUV）光刻材料上取得重要进展，开发出一种基于聚碲氧烷的新型光刻胶，为先进半导体制造中的关键材料提供了新的设计策略。

上市公司方面，光刻胶相关概念股有20余只，截至10月26日，已有6家公司发布三季报数据，业绩全部向好。晶瑞电材前三季度归母净利润1.28亿元，同比增长超192倍，公司表示主要系产品毛利上涨，交易性金融资产价格波动所致。久日新材前三季度归母净利润271.98万元，同比扭亏。公司表示，报告期内稳步实现了部分光引发剂产品提价策略落地。艾森股份前三季度归母净利润为3448万元，同比上升44.7%，报告期内公司下游终端需求的持续增长，公司营业收入同比稳健增长。瑞联新材、鼎龙股份预告前三季度净利润均预增，康达新材预告扭亏。

据锐观产业研究院报告，2024年我国光刻胶市场规模增长至114亿元以上，预计2025年光刻胶市场规模可达123亿元。银河证券认为，光刻胶作为半导体、印制电路板、平板显示等行业的基础材料，其技术进步可以促进相关产业链的协同发展，上游材料供应商、设备制造商，中游光刻胶生产企业，以及下游光刻胶产品应用企业都能从中受益。

光刻机（胶）板块相关股票：晶瑞电材、锦华新材、安泰科技、万润股份、佳先股份、联合化学、艾森股份、彤程新材、钢研纳克、南大光电、江化微。