投资者提问：

公司有第三代半导体领域相关的产品技术吗？在氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)等第三代半导体器件制造中，臭氧用于高质量氧化层的沉积。

董秘回答(国林科技SZ300786)：

尊敬的投资者，您好。国林半导体基于集团多年来在臭氧机理研究的技术优势和技术沉淀，目前所研发的为半导体行业专用的臭氧发生器和臭氧水机核心器件均可实现自研自制，能够为半导体、光伏、面板等行业提供系统配套设备，并可以为终端用户提供臭氧系统设备的日常维护和整机维修业务。感谢您的关注。