本文源自:市场资讯

国家知识产权局信息显示，合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“一种光学邻近效应修正优化方法”的专利，公开号CN121069711A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明提供一种光学邻近效应修正优化方法，包括以下步骤：提供一初始版图，将所述初始版图划分为若干个小区块，所述小区块包括主图形区域和围设在所述主图形区域的扩展区域，每个所述小区块均与相邻的所述小区块的扩展区域重叠；对每个所述小区块OPC修正和模拟验证，并在模拟验证图形中在相邻两个所述小区块之间的重叠区域出现问题图形和若干个疑似凶手图形；从所有所述疑似凶手图形中找出造成所述问题图形出现的目标凶手图形；优化所有所述小区块中的目标凶手图形，以得到中间版图；对所述中间版图进行OPC修正，以大大降低小区域边缘处的EPE，解决了OPC修正的验证结果不收敛的问题。

天眼查资料显示，合肥晶合集成电路股份有限公司，成立于2015年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本200613.5157万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目632次，财产线索方面有商标信息41条，专利信息1444条，此外企业还拥有行政许可22个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。