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国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司申请一项名为“金属膜层的沉积方法及半导体器件”的专利，公开号CN121046782A，申请日期为2025年7月。专利摘要显示，本公开提供了一种金属膜层的沉积方法及半导体器件，属于半导体技术领域。该沉积方法包括：提供一金属沉积设备；将所述晶圆置入所述金属沉积设备；通过所述金属沉积设备沉积Ti层；通过所述金属沉积设备沉积AlSi层，在沉积所述AlSi层的过程中，多次执行冷却作业；通过所述金属沉积设备沉积TiN层。本公开能够有效的解决金属膜层颗粒粗大的问题。

天眼查资料显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司，成立于2014年，位于金华市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本380450万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方华灿光电（浙江）有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目43次，专利信息1021条，此外企业还拥有行政许可42个。

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