当前位置: 爱股网 > 股票新闻 > 正文

国林科技:臭氧发生器及功能水设备可用于存储芯片清洗与薄膜沉积环节

时间:2025年11月27日 08:45

本文源自:市场资讯

有投资者在互动平台向国林科技提问:“公司2023年2月9日互动易回复:公司目前研制的光伏用高浓度臭氧水机主要用于生产HJT异质结类型电池板,主要在制绒,清洗和薄膜沉积工序应用。这是公司以前的回复风格,直接诚恳。请公司按照一致性原则,就公司目前研制的存储芯片用臭氧设备的具体技术工艺和使用场景进行介绍。谢谢!”

针对上述提问,国林科技回应称:“尊敬的投资者,您好。国林半导体所研制臭氧发生器以及各类功能水设备可应用于存储芯片制造工艺中的清洗与薄膜沉积环节。感谢您的关注。”

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

[返回前页] [关闭本页]

热门新闻

>>>查看更多:股市要闻