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国家知识产权局信息显示，华海清科股份有限公司取得一项名为“一种抛光防护装置和化学机械抛光系统”的专利，授权公告号CN 223572864 U，申请日期为2024年12月。专利摘要显示，本实用新型公开了一种抛光防护装置和化学机械抛光系统，所述抛光防护装置包括：环状结构的挡圈，设置于所述抛光盘的外周侧；升降组件，其固定端连接于抛光系统的基座，其移动端连接于所述挡圈，以带动挡圈沿竖向移动；所述升降组件配置有防护套，以阻隔抛光废液进入升降组件的内部。

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