台积电已制造超10亿颗7nm芯片，是项什么技术，利好的股票有哪些。最近，台积电在官方博客中宣布，今年7月，台积电生产了第10亿7纳米芯片，功能良好，没有缺陷。“所用的硅片足以覆盖曼哈顿， 13个以上的城区，每个芯片都有超过10亿个晶体管。”

　　据台积电称该公司的7纳米技术已于2018年4月正式投入大规模生产，这是世界上第一个在中的铸造厂。目前，它已经服务了世界各地的几十个大客户，并创造了100多种芯片产品。

　　数据显示，台积电首批7纳米产品包括比特兰的芯片矿机、西林的芯片FPGA、华为，的苹果， 麒麟980的A12等。

　　台积电在文章中指出，该公司在中生产7纳米芯片的过程中首次引入了光刻极紫外(EUV)技术。作为业内第一家在7纳米时代将EUV应用于商业生产的公司，中在这一过程中积累的经验将有助于台积电在接下来的5纳米芯片大规模生产任务中再次引领半导体行业。

　　此外，台积电将7纳米技术扩展到中的N6工艺，并用EUV取代了传统的浸没层。目前，N6已经进入大规模生产阶段。该工艺提供了一个全新的标准单元，逻辑密度提高了近20%，其设计规则与以前版本的N7完全兼容，为7纳米芯片的设计提供了一个非常划算的选择

　　据了解，自台积电，引进7纳米技术以来，苹果，华为， AMD等客户已经推出了新一代7纳米芯片，包括麒麟990系列、A14和锐龙3000、RX  5700系列等。而生产能力长期以来一直供不应求。

　　今年7月，英特尔宣布其7海里芯片将至少推迟到2022年。首席执行官鲍勃斯旺(Bob  Swan)表示，英特尔未来可能会在芯片寻找一家第三方纯晶圆代工厂，台积电有望获得一些订单。

　　目前，除台积电，外，只有三星拥有成熟的7纳米工艺技术，而IBM最近发布的新款CPU  POWER10采用了三星制造的7纳米技术

　　制约更先进的7纳米及以下工艺的关键问题之一是EUV  光刻技术，该技术为台积电10亿7纳米芯片的大规模生产做出了巨大贡献

　　台积电已制造超10亿颗7nm芯片，是项什么技术？

　　研究数据表明，光刻机是实现光刻工艺的关键设备，光刻机将掩模上的电路结构图复制到硅片上，开始芯片生产。光刻机器设备是所有半导体设备中中复杂度最高、精度最高、单价最高的设备。

　　EUV  光刻机器是目前最先进的光刻机器。使用EUV光源，使用的光波波长仅为13.5纳米，数值孔径为0.33。目前，世界上只有ASML能生产EUV  光刻机，价格高达1.2亿美元。格芯，的首席技术官加里巴顿曾经说过，如果EUV光刻不在5纳米处使用，光刻的台阶将超过100步。

　　在7纳米技术中，台积电用氟化氩代替EUV完成了7纳米工艺，但在产品生产周期、光学邻近效应校正的复杂性、工艺控制和产量等方面都不如EUV。在技术领域5纳米或更先进的中，EUV设备被认为是必不可少的。

　　西南证券，分析师倪正洋， 6月17日报道，高端光刻机的突破需要物镜、光源、浸没系统等核心部件的协同开发，以及光刻胶，光刻，光罩、涂胶等地的开发设备、测试设备等诸多配套设施的配合。在国内，在“02专项",”的大力支持下，近年来发展迅速。

　　根据上述报告，郭克精密、麒儿机电有限公司和华卓精科在物镜、浸没系统和双工作台方面通过了02专项验收，福晶科技的部分产品由ASML提供。在配套设施方面，华特气体和凯美特气实现了光刻天然气突破。南大光电，晶瑞股份，雅克科技，等。拥有布局， 中，高端光刻胶和辅助材料，清溢光电，菲利华打破了国外在光罩，和精测电子， 睿励的垄断科学和实现了国内晶圆前端跟踪检测设备的替代。芯源微涂胶开发设备已落户长江仓储、华力等先进晶圆厂，在中国光刻、产业产业链的突破下，预计上海微电子90纳米以内的下一代光刻机将很快突破。

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　　台积电宣布已制造超10亿颗7nm完好芯片，这是利 好华为、5G 概念股，5G 板块应声拉升。芯片概念股是未来的大势所趋。