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玻璃基板电极层镀膜核心技术----高性能溅射靶材

用户:小非12345_56 时间:2024年05月19日 00:26
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中商情报网讯:溅射靶材是指通过磁控溅射等镀膜系统在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材广泛应用于半导体集成电路、平面显示、太阳能电池、信息存储、低辐射玻璃等领域,是国家重点支持和鼓励发展的行业。

根据中商产业研究院的数据,2016-2023年,全球溅射靶材市场规模从113亿美元上升至258亿美元,年复合增长率为12.52%。未来,随着物联网、大数据、新型显示、太阳能电池、节能玻璃等新型基础设施和新型应用领域的发展,溅射靶材的终端应用领域将进一步扩大,全球溅射靶材市场规模仍将持续稳定增长。

高性能溅射靶材行业是国家重点支持和鼓励发展的行业,国家产业政策对行业发展具有积极的促进作用。目前国务院、国家发改委、工信部等政府部门已经通过各类文件多层次、多角度、多领域对高性能溅射靶材行业予以全产业链、全方位的指导,相继出台了《关于扩大战略性新兴产业投资培育壮大新增长点增长极的指导意见》《“十四五”原材料工业发展规划》《制造业可靠性提升实施意见》《电子信息制造业2023-2024年稳增长行动方案》等多项支持我国高性能溅射靶材行业发展的产业政策,为行业内企业的经营发展提供了有力的支持和良好的环境。


随着5G、半导体集成电路、互联网、人工智能等产业的迅速发展,人类社会已从“万物互联”步入“万屏互联”、“万物显示”时代,新型显示成为创新领域最蓬勃发展的产业方向之一。近年来,电子光学、材料学、机械学等领域相关学科不断取得重大突破,OLED、MiniLED、MicroLED新型显示技术竞相发展,8K超高清、3D显示、柔性显示、透明显示等技术领域进步显著,正颠覆传统显示终端应用形态

半导体集成电路用溅射靶材品种繁多,需求量较大,根据统计,溅射靶材在全球半导体制造材料和封装测试材料市场的占比均接近3%。随着半导体产业快速发展,中国半导体集成电路用溅射靶材市场将保持高速增长态势。2017-2023年中国半导体集成电路用溅射靶材市场规模从14亿元增长至23亿元,年复合增长率为8.63%。未来,半导体集成电路用溅射靶材行业市场规模整体保持稳定增长,预计2026年将达到33亿元。

欧莱新材成立于2010年,注册地位于广东省韶关市,2024年在上海证券交易所科创板上市。欧莱新材主营业务为高性能溅射靶材的研发、生产和销售,主要产品包括多种尺寸和各类形态的铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和ITO靶等,产品可广泛应用于半导体显示、触控屏、建筑玻璃、装饰镀膜、集成电路封装、新能源电池和太阳能电池等领域,是各类薄膜工业化制备的关键材料。

根据欧莱新材2023年年报,欧莱新材2023年实现营业收入4.76亿元,实现归属于母公司股东的净利润0.49亿元。


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