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EUV光刻技术的“Deepseek”时刻

用户:用户:狮子独角兽zl 时间:2025年03月09日 18:26
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中国正在与 ASML 竞争。激光诱导放电等离子体(LDP) EUV产生商业化的推动是我所担心的光刻技术的“深度探索”时刻。


LDP 比 ASML使用的激光等离子体(LPP)效率高得多。LDP将少量的锡汽化成两个电极之间的云,然后使用高电压将锡蒸气转化为等离子体。电子与锡离子碰撞产生13.5nm EUV 光。 LPP 需要高能激光和复杂的FPGA实时控制电路。


LDP 方法更简单、更小、更具成本效益和更好的能效。

随附 LDP 生成方法与LPP 的比较。


【山证电子通信]近期观点


茂莱光学:一定要重视,这轮后道先进封装gkj龙头主线。


英诺激光:gkj非常强悍的标的,光源核心部件。





注:此文仅代表作者观点

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