上海新阳(SZ300236) 上海新阳的四个主要产品为电镀液及添加剂、清洗液、光刻胶、化学机械研磨液。以下是其在国产替代中的进步空间及对业绩增长的贡献分析：
进步空间
光刻胶领域：光刻胶一直被日美企业垄断，上海新阳经过8年研发，已建成包括I线、KrF、ArF干法、ArF浸没式各类光刻胶在内的完整研发生产平台。其中，KrF光刻胶已有多款产品实现批量化销售，ArF浸没式光刻胶也已取得销售订单，迈出了实现产业化的重要一步，未来有望进一步提高市场份额，打破国外企业在高端光刻胶领域的垄断。
化学机械研磨液领域：国内高端芯片制造所需的CMP研磨液主要依赖进口，上海新阳的CMP研磨液系列产品已完成客户端测试验证，可覆盖14nm及以上技术节点，并进入批量化生产阶段，有望进一步打破国外垄断，扩大国产替代份额。
蚀刻液和清洗液领域：上海新阳的蚀刻液技术迭代迅速，已升级到四代产品，能处理复杂结构，部分产品选择性蚀刻速率全球领先。其清洗液也已能覆盖从90纳米到14纳米的各种技术要求，在国产替代中具有技术优势，可进一步提高在集成电路制造领域的应用比例。
对业绩增长的贡献
光刻胶：光刻胶是上海新阳业绩增长的核心驱动力之一。2024年其光刻胶销售额翻倍，2025年上半年销量持续提升。随着KrF光刻胶的批量销售和ArF浸没式光刻胶的逐步量产，预计将为公司带来显著的业绩增长。假设2025年光刻胶批量出货带动业绩爆发，净利润增速可达35%，净利润将达到3.78亿元。
化学机械研磨液：公司的研磨液产品销售规模持续快速增长，成熟的STI slurry、Poly slurry、W slurry等系列产品已进入批量化生产阶段，随着市场份额的不断扩大，将对业绩增长产生积极影响。
电镀液及添加剂、清洗液：这两类产品是公司的传统优势产品，市场份额持续扩张。2025年上半年，公司集成电路制造用关键工艺材料的销量显著增长，其中电镀液及添加剂、清洗液等产品受益于下游晶圆厂扩产，订单持续增长，将继续为业绩增长提供稳定支撑。上海新阳(SZ300236)