锦华新材(BJ920015) 【新型光刻胶制备方法开发成功 多家公司布局半导体光刻胶业务】近日，华东理工大学副教授庄黎伟、美国约翰霍普金斯大学教授迈克尔·萨帕希斯领衔的国际合作团队，提出了一种间歇性旋涂化学液相沉积制备非晶态沸石咪唑酯骨架（aZIF）薄膜的方法，实现了薄膜沉积速率和厚度的可控，并进行了电子束光刻和超越极紫外光刻验证。相关研究近日发表于《自然—化学工程》。
据介绍，近年来，aZIF薄膜被用作先进光刻胶。实现aZIF薄膜的大面积、高精度可控制备，对相关领域的先进光刻工艺具有重要意义。在前期基于超稀释前驱体溶液赋能化学液相沉积法制备aZIF薄膜策略的基础上，研究团队提出了制备aZIF薄膜的新方法。
据机构报告，2023年我国光刻胶市场规模约109.2亿元，2024年增长至114亿元以上，KrF光刻胶等中高端产品国产替代进程加快，预计2025年光刻胶市场规模可达123亿元。根据公司经营业务以及自身在投资者关系互动平台的披露，A股市场布局半导体光刻胶业务的公司有上海新阳、南大光电、聚光科技等20家，这些公司中既有属于半导体产业链上下游公司，也有公司的子公司或参股公司参与半导体光刻胶业务。（证券时报）(来自爱股票APP)