恒运昌(688785)_公司公告_恒运昌:投资者关系活动记录表(2026-003)

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恒运昌:投资者关系活动记录表(2026-003)下载公告
公告日期:2026-03-17

深圳市恒运昌真空技术股份有限公司 投资者关系活动记录表

编号:2026-003

?特定对象调研 □分析师会议

□媒体采访 □业绩说明会

投资者关系活动

□新闻发布会 □路演活动

类别

□现场参观

□其他(请文字说明其他活动内容)

参与机构名称 财通基金、海富通基金、国海证券

时间 2026年3月12日

地点 深圳市宝安区西乡街道铁岗社区桃花源智创小镇功能配套区B栋

公司接待人员

董事会秘书庄丽华

投资者关系专员郝一骏

姓名

1. 请介绍一下公司的业务情况及产品情况

回答:公司是国内领先的半导体设备核心零部件供应商,主要从事

等离子体射频电源系统、等离子体激发装置、等离子体直流电源、 各种配件的研发、生产、销售及技术服务,并引进真空获得和流体

控制等相关的核心零部件,围绕等离子体工艺提供核心零部件整体 解决方案。公司主要产品等离子体射频电源系统(等离子体射频电

源及匹配器)被广泛应用于半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子

注入、清洗去胶、键合等环节,且直接决定设备工艺能力、产品良 率。历经十年,公司先后推出CSL、Bestda、Aspen 三代产品系列 等离子体射频电源系统,成功打破了美系两大巨头在国内长达数十 年的垄断格局,填补国内空白。公司研发的最新一代等离子体射频

电源系统Cedar系列产品,锚定更先进制程前沿领域,目前处于验证

阶段。

投资者关系活动

主要内容介绍

2. 请介绍一下公司核心技术优势 回答:经过十多年的持续研发、不断创新和积累,公司以技术发展 体系,一方面从测量、控制及架构三方面构建的底层通用的3 大基 、行业需求为双导向,建立了“基石技术+产品化支撑技术”的技术

石技术,并基于基石技术,结合半导体设备中应用,特别是先进制

程中更快速、更精准、更稳定的应用诉求和实现难点,发展出8 大 产品化支撑技术,实现了突破高端等离子体射频电源系统的先进设 计、测量和控制等难题,掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、

快速调频、脉冲控制等等离子体射频电源系统运行中的关键技术。

频快速响应能够使等离子体在最短时间内达到稳定状态,实现对薄

膜厚度和膜厚均匀性的精准控制,是设备运行的稳定性和产品良率 的关键。公司主要产品等离子体射频电源系统作为薄膜沉积、刻蚀

、离子注入、清洗去胶和键合环节生产设备的核心零部件,是半导 体制造中等离子体工艺控制的核心。同时,等离子体射频电源系统 也是半导体设备零部件国产化最难环节之一,在此严苛要求下,公 司已具备成熟的规模化量产能力,公司产品已量产交付拓荆科技、 中微公司、北方华创、微导纳米、盛美上海等国内头部半导体设备 商,并成为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。

3. 请介绍一下公司人员情况

回答:截止2025年6月30日,公司员工人数达375人。其中,生产人 员占比约28%,管理及其他职能人员占比约26%,销售人员占比约4%

,研发人员占比约42%,员工总数及研发人员数量均保持高速增长。 公司核心技术人员均具有15年以上的从业经验,主要研发骨干也拥 有5年以上的从业经验,在等离子体射频电源系统领域有着深厚的经 验积淀,能够较好地把握下游设备厂商的国产化需求以及行业发展 趋势,公司将持续增加研发投入,同时加强生产、销售、技术支持 等团队的建设与管理。

4. 请介绍一下公司员工培养的机制

回答:公司不断加强人才梯队建设工作,通过各种方式重点激励研 发人才。公司还将持续引进各类专业人才,包括招募更多具备前瞻 性、共性基础技术研究能力的技术人才,尤其是国内外高端专业技 术人才、各领域高端管理人才的引进,不断优化人才结构。公司将 坚持内部培养和外部招聘相结合的战略方针,加大人力资源成本投 入,包括加大与高校科研院所合作与联合培养等,吸引更多优秀人 才,打造一流的人才队伍,满足公司快速发展的需要。

5. 请介绍一下董事长乐卫平的创业历程

回答:乐卫平先生于1995 年7 月至2002 年2 月就职于湖南省桃 源县邮电局电信设备厂,任技术员、工程师;2003 年3 月至2006 年5 月,就职于AE (深圳),任测试技术员、工程师;2006 年 6 月至2014 年4 月,就职于AE(上海),任产品应用工程师与 销售高级经理;2014 年5 月至2021 年9 月,就职于公司,任执 行董事、总经理;2021 年9 月至今,任公司董事长、总经理。公 司于2013年成立,早期以引进真空装备核心零部件业务为主,自研 产品上处于起步探索期。2018年公司进入快速发展期,公司自研产 品在半导体领域的应用取得重大突破,实现了半导体级等离子体射 频电源系统的技术突破,研制出Bestda系列等离子体射频电源系统 实现设备商验证并批量出货。2023年公司进入持续创新期,公司自 研产品已成为业务主导。此外,公司持续为晶圆厂提供等离子体射 频电源系统原位替换及维修服务。同时,公司在此阶段突破了先进 制程的技术难题,研发出Aspen/Basalt系列等离子体射频电源系统

,完成了产品代际升级,应用的设备工艺阶段也从薄膜沉积扩展至 刻蚀的批量应用;同时,Torrent系列远程等离子体源和Ginkgo 系 列等离子体直流电源等产品也陆续完成开发,实现部分小批量交付

,进一步丰富了公司的产品种类。在此阶段,公司还突破了等离子 体电弧检测与控制、等离子体偏置电压的脉冲控制等先进技术,公 司进入快速上升通道,业务规模持续扩大。公司始终致力于成为围 绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台型公司。

6. 请介绍一下公司的募投项目情况。

回答:“沈阳半导体射频电源系统产业化建设项目”主要开展半导 体级等离子体射频电源系统产品的生产和销售,统筹区域内优势资 源,健全总部与子公司之间的分工合作机制。“半导体与真空装备 核心零部件智能化生产运营基地项目”拟提升公司等离子体射频电 源系统、等离子体直流电源、等离子体激发装置等产品的生产规模 和生产效率。同时,该项目将建设信息化业务管理平台,旨在实现 公司生产自动化和业务管理信息化、数字化。本项目建成后,将能 够提升公司相关产品的生产服务能力,以及在业务规划、经营决策 等方面整体提升公司的信息化管理能力。“研发与前沿技术创新中 心项目”拟进行下一代等离子体射频电源及匹配器、电源类新品、 质量流量计、等离子体设备相关衍生产品等产品及技术的研究。“ 营销及技术支持中心项目”通过在长三角地区、珠三角地区、京津 冀地区、中西部地区等关键区域建立营销及技术支持中心,能够直 接与终端晶圆厂沟通并获取实时的技术反馈,为客户提供更加精准 和定制化的技术服务,并且能够直接参与到与终端晶圆厂的合作, 第一时间获悉先进制程对核心零部件的最新技术要求,从而提升整 体的生产效率和产品的市场适应性,从而巩固并扩大市场份额。除 此之外,公司将通过沈阳半导体射频电源系统产业化建设项目及半 导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目提高产品生产 效率,扩大公司产销规模,满足不断增长的市场需求并解决公司产 能瓶颈问题,提升公司整体运营效率,促进公司业绩增长。以上募 投项目的建设,将进一步提高公司产品产能,加快推进公司核心技 术的商业化落地,满足下游客户高速增长的市场需求。同时提高公 司整体创新水平,提升公司智能化生产能力、技术服务能力和响应 速度,从而提升公司综合竞争力,推动公司主营业务高质量发展。

7. 公司2026年一季度的业绩情况如何? 回答:公司2026年一季度的业绩情况以公司最终在官方渠道所披露 的2026年一季报为准。


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