近期，科技股面临中美摩擦升级、美国针对华为海思管制升级和疫情高位震荡等众多利空因素，整体表现不佳。然而，今日光刻胶却逆势领涨两市，板块涨幅达到4.29%，成为科技股中一股“清流”。

　　其实，在上周，市场就已对半导体材料表示认可。天风证券研报指出，此前美国针对华为海思的管制升级后，半导体设备和材料指数“先涨后跌”，设备指数与材料指数在事件后前两日呈上行趋势，市场对于半导体设备材料国产替代趋势逻辑较为认可。

　　那么，在光刻胶如此强势的背后，隐藏着什么硬核逻辑?

　　国产替代的急切需求

　　在半导体材料领域，光刻胶作为是集成电路制程技术进步的“燃料”，是国产代替重要环节。浙商证券研报指出，目前一块半导体芯片在制造过程中一般需要进行 10-50 道光刻过程，光刻胶若性能不达标会对芯片成品率造成重大影响。

　　中信建投研报指出，在一次芯片制造中，往往要对硅片进行上十次光刻，在光刻过程中，需在硅片上涂一层光刻胶，经紫外线曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，通过显影后，被曝光的光刻胶将被去除，电路图形由掩膜版转移到光刻胶上，再经过刻蚀工艺，实现电路图形由光刻胶转移到硅片上。因此，光刻胶是光刻工艺最重要的耗材，光刻胶的质量对光刻精度至关重要。

　　此外，天风证券潘暕指出，光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的30%，耗时约占整个芯片工艺的40%-50%，是芯片制造中最核心的工艺。

　　但是，目前光刻胶市场主要由日韩美公司垄断，大陆企业市占率不足 10%。光刻胶属于高技术壁垒材料，生产工艺复杂，纯度要求高，需要长期积累。由于技术壁垒高并且要与光刻设备协同研发，光刻胶行业呈现寡头竞争的格局。根据《现代化工》数据，目前全球前五大光刻胶厂商占据全球约 87%的市场份额，大陆企业市场份额不足 10%。

　　因此，在逆全球化浪潮下，在半导体材料方面的国产代替或是大势所趋。